菱形狀a氧化鋁研磨微粉 我公司生產FWA系列拋光粉是做金相拋光的**材料，同時還適合不銹鋼鏡面拋光，鈦金屬拋光，鑄鐵拋光，鋁材鏡面拋光，大理石石材鏡面拋光，油漆拋光，樹脂拋光，PCB電路板拋光，玻璃拋光，光學玻璃，眼鏡鏡片拋光，樹脂鏡片拋光，藍寶石拋光，LED拋光，鍺拋光，鋅拋光，拋光快，光亮度好，無劃傷。 氧化鋁拋光粉用于藍寶石拋光比氧化硅的拋光速率快3倍左右，每小時能拋7-10um。 概要與特點：無錫中晶材料科技有限公司為迎合市場需求，采用獨特的生產工藝，利用國內外先進的生產設備，通過嚴謹的生產流程制作而成的納米氧化鋁拋光粉為高純度白色粉末，是玻璃、水鉆、水晶、金屬、各種石材系列精拋納米材料。該產品具有以下優越性能：1、晶相穩定、硬度高、顆粒小且分布均勻；2、磨削力強、拋光快、光度亮、鏡面效果好；3、研磨效率高，拋光效果好，研磨效率遠遠高于二氧化硅等軟質磨料，表面光潔度優于白剛玉的拋光效果，切削力強、出光快、能拋出均勻而明亮的興澤。規格:項目 指標型 號 TWA 0.2 TWA 0.3 TWA 0.5外   觀 白色粉末 白色粉末 白色粉末晶 型 a相 α相 α相含 量﹪≥ 99.9% 99.9% 99.9%中位粒徑 D50 0.2um 0.3um 0.5um用途1、人造寶石、鋯石、玻璃、天然寶石、玉石、翡翠、瑪瑙、等振動拋光（機器拋光、滾動拋光）、手動拋光（研磨拋光）等。2、鋁材、銅材、不銹鋼、石材、玻璃、墻地磚等研磨拋光。3、金屬表面拋光。4、拋光條、拋光漿、油漆表面、亞克力、不銹鋼鏡面、非鐵金屬、玉石，大理石、花岡巖、水晶、光學玻璃的表面拋光。5、汽車油漆打磨拋光，手機外殼油漆拋光等。用量推薦用量為1～20％，使用者應根據不同體系經過試驗決定*佳添加量。包裝20公斤/每箱（內襯PE塑料袋）注意1.請不要浸水。2.請不要用濕手觸摸。3.請佩戴防塵護罩、安全眼鏡、防護手套。4.請不要漏出，漏出時請即時清掃干凈。                      中晶微米級氧化鋁拋光粉（精拋）.【產品性能】本公司生產的TWA-1、TWA-2、TWA-3、TWA-5、TWA-9、TWA-12、TWA15氧化鋁產品，采用獨特的生產工藝，利用國內外先進的生產設備，通過嚴謹的生產流程制作而成。該產品具有以下優越性能：●晶相穩定、硬度高、顆粒小且分布均勻；●磨削力強、拋光快、光度亮、鏡面效果好；●研磨效率高，拋光效果好，研磨效率遠遠高于二氧化硅等軟質磨料，表面光潔度優于白剛玉的拋光效果，切削力強、出光快                    產品粒度分布 微米（μm） 規格型號  平均粒度（D50值) 粒度目數（＃） 晶型 含量%> 外觀TWA1 1.0±0.2 8000＃ α相 99.62% 白色粉末TWA2 2.2±0.4 6000＃ α相 99.62% 白色粉末TWA3 3.1±0.4 4000＃ α相 99.62% 白色粉末TWA5 4.7±0.5 3000＃ α相 99.62% 白色粉末TWA9 6.4±0.6 2000＃ α相 99.62% 白色粉末TWA GF1 7.0±0.6 2200＃ α相 99.62% 白色粉末TWA12 8.4±o.6 1500＃ α相 99.62% 白色粉末TWA15 10.5±1.5 800＃ α相 99.62% 白色粉末【適用范圍及建議】 ①人造寶石、鋯石、玻璃、天然寶石、玉石、翡翠、瑪瑙、等振動拋光（機器拋光、滾動拋光）、手動拋光（研磨拋光）等。②鋁材、銅材、不銹鋼、石材、玻璃、墻地磚等研磨拋光。③金屬表面拋光。

【產品型號】ZJ-200系列氧化鋁拋光液【應用領域】不銹鋼、鋁合金等金屬材料的拋光。【產品特色】顆粒分散性好，有效避免了拋光過程中由于顆粒團聚導致的工件表面劃傷；顆粒粒徑分布適中，**程度提升拋光速度的同時降低微劃傷的概率，可以提高拋光良率；運用拋光液中的化學新作用，提高拋光速度，改善拋光表面的質量；低VOC配方，使用過程避免粉塵產生，關注環保和人體健康安全。【物化指標】【使用說明】產品久置會有分層、沉淀，均屬正常物理現象，使用前請攪拌均勻；使用過程中保持持續攪拌，可保證穩定的研磨效率；根據工藝要求進行一定的稀釋，一般建議1:1至1:3。【包裝】標準包裝：25 kg /桶，250 kg/桶。也可根據客戶要求進行包裝。

平板狀氧化鋁微粉  該研磨拋光微粉是以徳國進口工業氧化鋁粉為主要原料,采用特殊礦化劑、高溫控制晶粒形狀及大小,經特殊處理和嚴顆粒呈獨特的平板狀結構,硬度高達莫氏九級,磨削力強,不易產生劃痕,可得到**率、高精度的被加工表面,有特殊設計的粒度分布,質量和日本FUJIMI公司相當。2、平板型氧化鋁研磨拋光微粉的特點1）平板型氧化鋁研磨拋光微粉與其它氧化鋁研磨拋光微粉的**區別是：片狀，硬度高，粒度均勻。2）特點為：A、形狀為平板狀，即片狀，使磨擦力增大，提高了磨削速度，提高了工效，因此可減少磨片機的數量、人工和磨削時間，如顯像管玻殼磨削工效能提高3-5倍；B、由于形狀為平板狀，故對于被磨對象（如半導體硅片等）來說不易劃傷，合格品率可提高10%至15%，如半導體硅片，其合格品率一般能達到99%以上；C、由于硬度比普通氧化鋁研磨拋光微粉高，故用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要少，如果磨同樣數量的產品，其用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要節約40%至50%；D、與國外同類產品相比，質量達到或超過國外同類產品，品質已達到國際標準，但產品價格只有國外同類產品的50%；E、由于平板型氧化鋁研磨拋光微粉的優良性能，故加工的產品合格品率高，質量穩定，生產成本只有原來的50%-60%。（具體數據可見用戶報告）3、片狀氧化鋁是以工業氧化鋁為原料，添加復合礦化劑，經過高溫煅燒而成。晶體形貌為具有一定厚度的片狀備用于以下方面的研磨拋光磨料，平板型氧化鋁研磨拋光微粉的用途:1）電子行業: 單晶硅片、壓電石英晶體、化合物半導體的研拋。2）玻璃行業: 硬質玻璃和顯象管玻殼的加工。3）涂附行業: 特種涂料和等離子噴涂的填充劑。4）金屬和陶瓷加工業。三, 平板狀(片狀)氧化鋁研磨微粉(AL2O3)性能指  平均粒度（D50值）（由Coulter Counter測試)規格型號  平均粒度（D50值）（由Coulter Counter測試）粒度       目數       （＃)TWA0.8       0.8       10000#TWA1          1.0       8000＃TWA2          2.2       6000＃TWA3          3.1       4000＃TWA5          4.7       3000＃TWA9          6.4       2000＃TWA GF1     7.0      2200＃TWA12         8.4      1500＃TWA15        10.5      800＃TWA20        14.5      700＃TWA25         17.4     700＃TWA30        21.5      600＃TWA35        25.5      500 #TWA45        36.0      360＃TWA50        42.5      320＃TWA55        50.0      280＃     TWA6         63.0      240＃      注明(產品粒度以客戶使用要求標準為準)      粒度分布表以TWA12為例）標準粒徑實測數值（um)規格（um)**粒徑（dv-0值）16.9<23累積高度3%點的粒徑（dv-3值）13.63<19累積高度3%點的粒徑（dv-3值）8.57.8-9累積高度94%點的粒徑（dv-94值）4.44≥4化學成分化學成份分析值（%）規格值（%）AL2O3  99.38    99.3SiNa2O2 0.27   0.05Na2O  0.35       0.55Fe2O3 0.03       0.10物理指標：化學名稱  外觀  比重         莫氏硬度A-AL2O3  白色 3.95-3.98g/cm3    9.0包裝外貌:包裝材料內襯雙層塑料袋，紙箱外包裝包裝重量20KG/箱

 煅燒α氧化鋁研磨微粉煅燒氧化鋁粉采用一級工業氧化鋁、氫氧化鋁外加添加劑技術煅燒轉相后，再采用先進的粉磨技術及工藝，生產出的活性氧化鋁微粉，其特點是活性大，粒度細。特別適用于定型制品和耐火澆注料、可塑料、修補料、噴補料、涂抹料等不定形耐火材料，對改善耐火材料的高溫強度、提高材料的抗侵蝕性能具有很強的作用。煅燒氧化鋁粉粉具有較高的化學穩定性，純度高、真比重大、酌減小、絕緣性能好，耐酸耐堿機械強度大，耐磨耐沖擊等特點具有熔點高、熱穩定性好、硬度大、耐磨性好、機械強度大高、電絕緣性好、耐腐蝕等特點，廣泛用于定形、不定形耐火材料、耐火澆注料結合劑、耐磨磨具、高純耐火纖維、特種陶瓷、電子陶瓷等。煅燒氧化鋁粉技術標準：.指標名稱Al2O3SiO2Fe2O3Na2O灼減α-Al2O3有效密度單位% %  % % %  %    R H技術要求≥99.5≤0.02≤0.02≤0.3≤0.1≥94.5   3.93

ZJ-200系列鋅合金氧化鋁鏡面拋光液鋅合金拋光液具有效率高、效果穩定等特點；專門針對鋁合金材質鏡面拋光工序(如1000系列工業純鋁、2000系列Al-Cu,Al-Cu-Mn合金、 3000系列Al-Mn合金、4000系列Al- Si合金、5000系列Al-Si合金、6000系列Al-Si合金、7000系列Al-Mg-Si-Cu合金、8000系列型號)，并根據材料型號的不 同配套有相應的不銹鋼拋光液。作業后能夠實現很高標準的平行度和**鏡面效果。　　鋅合金氧化鋁鏡面拋光液的組分：拋光粉、水、酸、無機鹽、其他。適合鋁合金等材質工件鏡面拋光加工用。　   一般來說，工件要實現鏡面效果，基本上都是要經過粗拋、精拋和拋光這三道工序的。如果工件本身具有一定的精度，則可以省略粗拋工序。　　粗拋：去除毛坯的大部分余量，**所達到的效果要保持到大致的幾何形狀與粗糙度。　　精拋：粗拋完成后的下一個工序就是精拋，結果是能夠保持*精確的幾何形狀以及精細的裂紋深度。　　拋光：工件通過了粗拋、精拋工藝后，進入拋光工序;也是*終實現光學表面層實現的**一個部分，前提下前兩者必須要為**一步拋光做好準備，使得在整個拋光過程當中，盡量去除粗拋與精拋所留下的破環層，實現光學表面*理想鏡面效果。　　由于這三種工序不同，所用的研磨液也不一樣　　1.粗拋選擇的耗材是：粗拋液，粗磨盤(鑄鐵盤)。這兩種耗材的成分里面，主成分的材質稍微較粗，要求硬度較高，顆粒度較大，這樣才有較好的切削力。　　2.精拋選擇的耗材是：精拋液，精磨盤(錫盤)。這兩種耗材相對要求要高一點，需要材質更為精細，顆粒非常小的原材料生產。　　3.拋光選擇的耗材是：拋光液，拋光盤(銅盤)。這個耗材要求**，對精細度有著非常嚴格的標準。一般是采用納米級顆粒度的原材料配置液體。也通常用的是微米級的金屬顆粒鍛造而成。　　選擇中研拋光液，保證拋光效果

產品描述阿爾法氧化鋁微粉 (white fused alumina)  TWA0.5、TWA1.5、TWA2、TWA3.5、TWA5、TWA7、TWA10、TWA14、TWA20、TWA28、TWA40、TWA63阿爾法氧化鋁微粉是以優質的鋁氧粉為原料，經電熔提煉結晶而成，具有硬度高，韌性稍低，純度高，自銳性優，磨削力強，發熱量小，效率高，耐酸堿腐蝕，耐高溫，熱穩定性好等特點。它不但是**的磨料磨具材料，還是**研磨，拋光材料等，用它加工制成的磨具，適用磨削高碳鋼，高速鋼及各種不銹鋼。它還廣泛用于精密鑄造，鋼鐵耐火，化工耐火，95電池，裝飾瓷等特種陶瓷及日常生活用瓷，以及軍工，電子等高科技行業。粒度(國標)        基本粒尺寸(um)TWA63             63-50umTWA50             50-40umTWA40             28-40umTWA28             20-28umTWA20             14-20umTWA14             10-14umTWA10             7-10umTWA7              5-7umFTWA5            3.5-5umTWA3.5         2.5-3.5umTWA2.5         1.5-2.5umTWA1.5         0.5-1.5umTWA0.5         0-0.5umAl2O3≥99.00%Fe2O3≤0.07%SiO2≤/Cao≤0.03%MgO≤0.02%K2O≤0.02%Na2O≤0.40%堆積密度1.75-1.95g/cm3顆粒密度≥3.90g/cm3 min莫氏硬度≥9顯微硬度21600-22600kg/mm3用途其磨具適用于磨削高碳鋼、高速鋼和淬火鋼等硬度較硬、抗張強度較大的材料的磨削。等。還可作為研磨拋光材料；精密鑄造、噴涂材料，化工觸媒載體，特種陶瓷、砂輪，煉鋼，**耐火材料等。它的特點是切削力較強，化學穩定性好，具有很好的絕緣性

品介紹規格參數【產品型號} ZJ-300   系列氧化鋁拋光液【應用領域】不銹鋼、鋁合金等金屬材料的拋光。【產品特色】顆粒分散性好，有效避免了拋光過程中由于顆粒團聚導致的工件表面劃傷；顆粒粒徑分布適中，**程度提升拋光速度的同時降低微劃傷的概率，可以提高拋光良率；運用拋光液中的化學新作用，提高拋光速度，改善拋光表面的質量；低VOC配方，使用過程避免粉塵產生，關注環保和人體健康安全。【使用說明】產品久置會有分層、沉淀，均屬正常物理現象，使用前請攪拌均勻；使用過程中保持持續攪拌，可保證穩定的研磨效率；根據工藝要求進行一定的稀釋，一般建議1:1至1:3。【包裝】標準包裝：25 kg /桶，250 kg/桶。也可根據客戶要求進行包裝。　　鋁合金氧化鋁鏡面拋光液：不 銹鋼拋光液具有效率高、效果穩定等特點；專門針對鋁合金材質鏡面拋光工序(如1000系列工業純鋁、2000系列Al-Cu,Al-Cu-Mn合金、 3000系列Al-Mn合金、4000系列Al- Si合金、5000系列Al-Si合金、6000系列Al-Si合金、7000系列Al-Mg-Si-Cu合金、8000系列型號)，并根據材料型號的不 同配套有相應的不銹鋼拋光液。作業后能夠實現很高標準的平行度和**鏡面效果。　　鋁合金鏡面拋光液的組分：拋光粉、水、酸、無機鹽、其他。適合鋁合金等材質工件鏡面拋光加工用。　   一般來說，工件要實現鏡面效果，基本上都是要經過粗拋、精拋和拋光這三道工序的。如果工件本身具有一定的精度，則可以省略粗拋工序。　　粗拋：去除毛坯的大部分余量，**所達到的效果要保持到大致的幾何形狀與粗糙度。　　精拋：粗拋完成后的下一個工序就是精拋，結果是能夠保持*精確的幾何形狀以及精細的裂紋深度。　　拋光：工件通過了粗拋、精拋工藝后，進入拋光工序;也是*終實現光學表面層實現的**一個部分，前提下前兩者必須要為**一步拋光做好準備，使得在整個拋光過程當中，盡量去除粗拋與精拋所留下的破環層，實現光學表面*理想鏡面效果。　　由于這三種工序不同，所用的研磨液也不一樣　　1.粗拋選擇的耗材是：粗拋液，粗磨盤(鑄鐵盤)。這兩種耗材的成分里面，主成分的材質稍微較粗，要求硬度較高，顆粒度較大，這樣才有較好的切削力。　　2.精拋選擇的耗材是：精拋液，精磨盤(錫盤)。這兩種耗材相對要求要高一點，需要材質更為精細，顆粒非常小的原材料生產。　　3.拋光選擇的耗材是：拋光液，拋光盤(銅盤)。這個耗材要求**，對精細度有著非常嚴格的標準。一般是采用納米級顆粒度的原材料配置液體。也通常用的是微米級的金屬顆粒鍛造而成。　　選擇中晶，保證拋光效果　   一般來說，研磨液都是以客戶工件的材質和要達到的效果來配置的。在交貨前，中晶工程師會依據客戶提供的工件試樣，除了要達到客戶拋光要求，還要實現高良率、**率、低成本原則。交貨后，提供詳細的使用方法，并有工程師上門指導，保證拋光效果。

片狀氧化鋁拋光粉采用高純氧化鋁作為原料, 在嚴格粒度分布控制下, *小粒度能夠達到0.3um。晶體呈四邊菱形狀、 粒度分布范圍窄、不易產生劃痕、磨削力強。用途：1) 單晶硅片的研磨、拋光。2) 水晶鏡片的研磨拋光。3) 手機外殼等鋁合金材料及不銹鋼材料的拋光。4) 不銹鋼餐具及其它裝飾材料的拋光。5) 等離子噴涂6)光學玻璃, 激光晶體, 光學晶體, 光學塑料, 半導體, 金屬合金, 陶瓷, 等。氧化鋁拋光粉規格：顏色：白色純度：≥ 96%菱形氧化鋁研磨微粉(AL2O3)性能指  平均粒度（D50值）（由Coulter Counter測試)          產品粒度分布 微米（μm）規格型號  平均粒度（D50值）（由Coulter Counter測試）粒度目數（＃)TWA-3      3.1       4000＃TWA-5      4.7       3000＃TWA-  7    7.0       2000＃TWA- 10     9.0       4000#      注明(產品粒度以客戶使用要求標準為準)      粒度分布表以TWA10為例）標準粒徑實測數值（um)規格（um)**粒徑（dv-0值）16.9<23累積高度3%點的粒徑（dv-3值）16.0     <19累積高度3%點的粒徑（dv-3值）8.5       7.8-9累積高度94%點的粒徑（dv-94值）4.44    ≥4化學成分化學成份分析值（%）規格值（%）AL2O399.3899.3SiNa2O20.0270.05Na2O0.350.55Fe2O30.030.10物理指標：化學名稱外觀比重莫氏硬度A-AL2O3白色3.95-3.98g/cm39.0包裝外貌:包裝材料內襯雙層塑料袋，紙箱外包裝包裝重量20KG/箱